Очищуючий засіб AGFA ALTEC T236 для фотополімерних CtP процесорів

Altec T236 використовується для видалення частинок копіювального шару пластин і запобігання утворенню смолистих відкладень. Agfa Altec T236 ефективно очищає резервуар процесора, форсунки, систему труб, щітки і транспортні ролики. Час, що залишився в трубах або резервуарі процесора після процедури очищення засіб абсолютно безпечний для подальшої роботи завдяки своєму лужному середовищі, в той час як залишки кислотного засобу для чищення можуть викликати реакцію нейтралізації і послабити свіжий проявник. Вапняні відкладення на роликах і в системі промивки краще видаляти за допомогою кислого засобу для чищення. Altec T236 можна також використовувати для очищення системи попереднього промивання (prewash) і системи змивання в фотополімерних CtP процесорах. З огляду на їх незначну мірі забруднення рекомендується розведення 1:10 по можливості теплою водою. В цьому випадку дуже важливо ретельно промити водою змивочні станції після Altec T236 для забезпечення нейтральності середовища.

Основні характеристики:

Лужний концентрований очищуючий засіб

Температура спалаху:> 93,33 С

Щільність: 1,050 кг / л

Тиск пара (20 С): 23,00 hPa рН: (25 С)> 13

Летючі органічні в-ва: 8%

Температура кипіння :> 100 С

Інструкція з використання: Очищувач Agfa Altec T236 розбавляється водою в співвідношенні 1: 3 (1 частина концентрату на 3 частини води). Для ефективного очищення слід дотримуватися такої послідовності операцій:

• звільнити резервуар проявника;
• видалити фільтр проявника і 150 мкм пластиковий фільтр для захисту насоса;
• залишити всі ролики і щітки в ванні проявника;
• наповнити ванну Altec T236 концентратом на ¼ обсягу, наприклад, 10 л концентрату залити в резервуар об'ємом 40 л, або 20 л концентрату - в резервуар об'ємом 80 л;
• наповнити резервуар водою; тепла вода забезпечить кращий результат;
• забезпечити циркуляцію, рух щіток і підігрів очищуючого розчину до 40С, якщо це можливо;
• підтримувати циркуляцію протягом як мінімум 30 хвилин;
• очистити ролики, при необхідності за допомогою губки;
• злити очищуючий засіб;
• видалити залишки полімерного шару, що осіли за допомогою струменя води або щітки;
• ретельно промити резервуар водою і на короткий час включити;
• циркуляцію для видалення засобу для чищення з системи.

• Зберігати при помірній температурі в сухому, добре вентильованому приміщенні далеко від джерел тепла.
• Не піддавати дії прямих сонячних променів.
• Зберігати в закритому контейнері.

• 24 місяці

• 10 літрів